真空鍍膜是在真空環(huán)境中，將膜材氣化并沉積到固體基材上形成固態(tài)薄膜的方法。
　　真空鍍膜是在生長薄膜的重要方法，幾乎所有類型的薄膜都可以用真空鍍膜方法制備。,　　
　　化學氣相沉積技術是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。
　　真空鍍膜的特點
　　真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有以下特點：
　　(1)真空鍍膜可以在固態(tài)基礎上鍍制金屬、合金、半導體薄膜及各種化合物薄膜，薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。
　�。�2）真空鍍膜可以鍍制高純度、高至密度、與基礎結(jié)合力強的各種功能薄膜、電子薄膜、光學薄膜。特別是大規(guī)模集成電路、小分子有機顯示器件、硅太陽能電池等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制膜技術無法滿足要求。
　�。�3）真空鍍膜對環(huán)境的污染小，特別是PVD方法，對環(huán)境基本沒有污染。用化學方法制備薄膜時，一方面膜自身受到制膜所使用的溶劑污染，性能降低，另一方面反應廢棄物對環(huán)境也會造成污染。
　　（4）真空鍍膜的主要缺點是需要真空設備，相對來說成本比較高！
　　而吉誠不銹鋼擁有數(shù)套PVD真空離子鍍設備
　　因其工藝流程復雜、環(huán)境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴。
　　可以鍍制的顏色多彩，包括水鍍中常見的黑鈦色，真空離子電鍍也能實現(xiàn)。定制黑鈦時請注明是需求水鍍還是電鍍哦！