1，真空鍍膜是在真空環(huán)境中，將膜材氣化并沉積到固體基材上形成固態(tài)薄膜的方法。
　　真空鍍膜是在生長(zhǎng)薄膜的重要方法，幾乎所有類型的薄膜都可以用真空鍍膜方法制備。,
　　2，真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。
　　化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。